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(1)サムスン-ASML共同研究所東灘設立警戒現「半導体供給」
(2)亡友軍確保」
(3)入力 20231215 午前 954 記事原文
(4)パク·ジョンジン記者
(5)1丁目 ㄴㅁ
(6)帰国する李在鎔（イ·ジェヨン）会長-京慶賢（キョン·ゲヒョン）社長ソウル=聯合ニュースの朴東柱（パク·ドンジュ）記者=オランダを訪問した李在鎔（イ·ジェヨン）三星電子会長と京慶賢（キョン·ギョンヒョン）三星電子社長が15日午前、ソウル金浦（キムポ）ビジネス航空センターを通じて帰国している 20231215pdj6635 ynacokr 끝
(7)三星電子とオランダの半導体装備メーカーASML共同研究所が華城東灘に設立される
(8)李在鎔（イ·ジェヨン）三星電子会長は、尹錫悦大統領のオランダ国賓訪問同行を終え、15日午前、ソウル金浦（キムポ）空港ビジネスセンターを通じて帰国した
(9)イ会長は今回の歴訪成果に対する取材陣の質問に「半導体がほぼ90だった」と話した 続いて半導体事業を総括するキョン·ギョンヒョン社長が「東灘に共同研究所を建設し、次世代露光装備ハイNAEUV極紫外線装備を搬入しASMLエンジニアとサムスンエンジニアが共に技術開発をするだろう」と話した
(10)サムスン電子とASMLは12日、現地時間オランダASML本社で業務協約MOUを結び、7億ユーロ約1兆ウォンを投資し、次世代露光装備開発のためのEUV共同研究所を設立することにした
(11)メモリー市場のトップであり、ファウンドリー事業を強化している三星電子は、ハイNA EUV装備を通じて技術競争力の強化を、ASMLは三星との協力で次世代工程技術と市場主導権を確保する狙いだ
(12)ハイNA EUV装備は2ナノメートルnm·1nm=10億分の1m工程核心装備だ。サムスン電子はDラムやロジック技術でハイNA EUV装備活用を極大化できる契機を作ったと評価されている
(13)キョン社長は「装備をライバル会社より早く持ち込むという観点より両社エンジニアが一緒に共同研究を通じてサムスン電子がハイNA EUVをよく使える協力関係を結んでいくことがより重要だ」と強調した
(14)続けて「EUVが最も重要なツールの一つであるため、これを通じて全体的な半導体サプライチェーンの立場で非常に丈夫な友軍を確保した」と評価した
httpsnnewsnavercomarticle0300003165918
