LK99特許回避を心配しなくてもいい理由

(1)LK99蒸着工程は0001~100時間
(2)水筒運ぶ青年
(3)照会 4434 コメント 75↓ ギャロッグ
(4)本発明で物理的蒸着PVDの一つの方法であるThermal Vapor Deposition TVDの工程温度工程時間は①セラミック前駆体の場合には550℃~1100℃ 1~100時間を行い、②蒸着工程の場合には550℃~2000℃ 0001~100時間を適用することができる
(5)ネギミㄱㄱ1
(6)wwwwww
(7)あ、兄さんだよwwwwww

(1)0061253
(2)君たちは絶対に特許回避できないという意志 www
(3)L正反合
(4)wwwハハハ – dc App – dcApp
(5)Lハンタイ
(6)ㄹㅇ – dc App
(7)gfwwwwww
(8)ヤンブンイたち、号泣するぞ www – – dc App
(9)時間は何だよ www
(10)わざとそう書いたように www
(11)これが工学部のユーモアなのか www 超ウケる、本当に www
(12)始発 wwwwww
(13)古木の鍵
(14)ナセンムン1重追加ww
(15)特許防御用 www 赤らめらべろ www
(16)狂った奴、本当に wwwwww – – dc App
(17)特許防御用であって、ほとんどあの特許に ひっかかるから全部ふさぐんじゃないか